DF系列扩散器专用纳米级过滤器_低压款气体过滤器

恒歌纳米级DF系列扩散器专用过滤器、专为半导体制程中真空腔体快速放气应用进行设计。结合了扩散器的气体流动特性和高效过滤器的颗粒拦截特性、扩散器专用过滤器过滤精度可达0.003um。独特的全316L不锈钢结构、不仅确保高效过滤、更巧妙的规避了湍流产生、对工艺室环境造成影响、有效防止气流吹起颗粒或者吹起硅片。可定制化设计、灵活适应各类安装空间。

产品特点

●  不锈钢粉末烧结介质、可快速排气

●  整体316L不锈钢结构

●  减少工艺腔体排气时的湍流

●  适用于多种工艺气体

●  洁净室环境内制造、测试、包装

●  100%完整性测试通过

●  100%氨气泄露检测通过、耐高温、耐高压、耐腐蚀

●  防止微粒混入、帮助提高产品合格率可根据安装空间进行设计

应用领域

DF系列扩散器专用过滤器广泛应用于半导体制造中的各种工艺环节，如光刻、蚀刻、离子注入等。它能够有效去除气体中的杂质，确保气体的高纯度，从而提高芯片的良品率和生产效率。此外，它还适用于其他需要高纯度气体的工业领域，如电子制造、化工等。

在半导体制程中，DF 系列扩散器应用气体过滤器主要有以下原因：

●  防止颗粒污染：半导体制造对环境洁净度要求极高，哪怕微小颗粒也可能导致芯片短路、断路或其他性能缺陷。气体过滤器能拦截 0.003um 及以上的颗粒，确保进入真空腔体的气体纯净，防止颗粒在工艺过程中附着在硅片或其他关键部件上，提高产品合格率。

●  避免气体杂质影响工艺：半导体制程中的光刻、蚀刻等工艺对气体纯度要求严格。过滤器可去除气体中的杂质，如水分、油分、金属离子等，避免这些杂质与工艺气体发生化学反应，或在高温、高压等条件下对硅片表面造成腐蚀、污染，保证工艺的一致性和稳定性。

●  保护设备：洁净的气体可减少对扩散器及其他相关设备内部组件的磨损和腐蚀，延长设备使用寿命，降低维护成本。如果气体中的颗粒或杂质进入设备内部，可能会堵塞气体通道、磨损密封件，影响设备的正常运行。

●  满足工艺精度要求：随着半导体器件尺寸不断缩小，工艺精度要求越来越高。使用气体过滤器能提供稳定、纯净的气体环境，满足高精度工艺要求，确保半导体产品的性能和质量达到标准。